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OPT-1550A全自動光學鍍膜設備

產品優勢
產品應用
AR/AF、分光膜、高反射膜、其它光學薄膜
產品特點
· 轉架結構是采用磁流體密封技術驅動的中心回轉方式來確保鍍膜的穩定性和均勻性
· 配置離子源以提高鍍膜層的**性,增加鍍膜層的附著性
· 光學監控系統,電阻加熱蒸發源可依需求追加安裝
· 工件架可選擇鐘罩式或行星式
· 豐富的鍍膜種類
· 易于操作和維護
· 很高的工藝穩定性
產品參數
類別項目參數詳情
規格真空室SUS304,Φ1550mm×1800mm(H)
工件架尺寸Φ1400mm
工件架轉速0-30rpm (可變)
膜厚檢測裝置多點晶振傳感器 + 膜厚控制儀
蒸發源電子槍 2 套 + IGBT 電源
離子源17/23 cm RF 離子源
排氣系統機械泵 + 分子泵(擴散泵)+ 深冷捕集泵
性能極限真空度7.0×10??Pa 以下
排氣時間15min(大氣壓~1.3×10?3Pa)
基板溫度最高:350℃
工作條件設備尺寸約 5500mm (W)×7200mm (D)×3700mm (H)
電源3 相,380v,50Hz,總容量約 120kVA
冷卻水水流量 11m3/h,溫度 20℃-25℃
空氣壓力0.6-0.7MPa 以上
重量約 11000kg