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首頁/產品展示/光學真空鍍膜設備/JSDH 系列多弧(hu)磁控(kong)濺射(she)復(fu)合鍍膜設備

JSDH 系列多弧磁控濺射復合鍍膜設備

產品優勢
應用領域
五金、鐘表、手機屏、手機中框、顯示屏、醫療器械、陶瓷、玻璃
產品特點
磁控濺射鍍膜機主要用于裝飾性和功能性反應薄膜具有沉積速率高,反應速度快等優點,徹底克服了陰極靶表面中毒和異常輝光放電等現象。
◆在金屬和非金屬基片上鍍制單層膜、多層復合膜等。配置升級后的陰極磁控靶及電源。
根據客戶需要可選弧靶、平面靶、圓柱靶、李生靶離子源等。

產品參數
主要技術參數JSDH-1300JSDH-1400JSDH-1500JSDH-1600JSDH-1680
設備型號JSDH-1300JSDH-1400JSDH-1500JSDH-1600JSDH-1680
真空室Φ1300×H1200mmΦ1400×H1200mmΦ1500×H1200mmΦ1600×H1200mmΦ1680×H1200mm
工件架6 桿 - 18 桿 或定制6 桿 - 24 桿 或定制
工件轉速公轉 0~10rpm
抽氣系統機械泵 + 羅茨泵 + 維持泵 + 分子泵(擴散泵)
加熱器管狀加熱器 300℃(zui高溫度 300℃)
極限真空6.0×10??Pa (空載)
抽氣時間大氣~6.0×10?3Pa ≤15min (空載)
偏壓電源單極脈沖偏壓電源或雙極脈沖偏壓電源
磁控陰極圓柱靶,中頻電源或直流電源
濺射陰極多弧靶
充氣系統多路充氣系統
操作控制觸控屏一體機
設備尺寸約 4200mm (長)×3500mm (寬)×2500mm (高)約 4200mm (長)×3500mm (寬)×2800mm (高)約 4500mm (長(chang))×4000mm (寬)×2800mm (高)約 4500mm (長)×4500mm (寬)×2800mm (高)
電力三相五線制:380V/50HZ 功率:50KW~80KW
冷卻水 (壓強 / 溫度)0.2~0.3Mpa/20℃~25℃(工業軟水、去離子水)
空氣壓力0.5-0.8Mpa (干燥)